第272章 成功了！光刻工厂实现了！

第272章 成功了！光刻工厂实现了！

3纳米极紫外光？

检测光束设备给出的数据反馈让所有人大吃一惊，3纳米的极紫外光束，这岂不是说他们即将具备制造3纳米芯片的条件？

众所周知，在不考虑《多重曝光技术》的情况下，想要刻出几纳米级的芯片，就要先制造出多少纳米的紫外光光源。

193纳米的深紫外光还好说，大自然里面也能找得到，但135纳米及以下的极紫外光，那就必须由人为创造。

深紫外光和极紫外光，和分别对应了duv光刻机和euv光刻机，后者现在还处于禁止出口龙国的设备清单里面。

一旦这束光源被证实，确实是可以运用于光刻的极紫外光，那么整个芯片行业都将被颠覆。

“真是3纳米吗？”

夏扬神色激动，向前一步。

他大学虽然学的不是半导体，但这并不代表他不懂芯片制造。

想要光刻14纳米芯片，就要制造135纳米波长的极紫外光，这在各种半导体咨询媒体铺天盖地宣传下，早已经人尽皆知。

3纳米波长？

岂不是能刻3纳米芯片？

雷兵也忍不住上前一步，询问道：“这束光能用吗？如果能用是不是意味着我们能造3纳米芯片了？”

现在主流芯片是14纳米，无论是龙兴科技的c上帝芯片，还是苹果公司的a9s仿生芯片，亦或者说是髙通公司刚刚推出的骁龙821芯片，它们都是14纳米制程，根本够不着3纳米的边边。

要是真能造3纳米芯片，那可不是小小的科技震撼，而是向整个半导体芯片行业扔了个蘑菇弹，要颠覆整个行业的事情了。

“不能这样说。”

陈星从震撼中回过神，给雷兵与夏扬讲解道：“具备光源还不够，如果真要造3纳米芯片，我们还要经历芯片设计与研制光刻胶。”

在半导体领域，可不仅仅光刻机和紫外光有纳米等级，光刻胶同样有纳米等级区分。

像目前龙兴化工研制的1号光刻胶，它的曝光波长就在193纳米，最高支持7纳米芯片制造，这还是有多重曝光技术加持的情况下。

想要制造出3纳米芯片，3纳米极紫外光、3纳米芯片电路设计、3纳米曝光波长光刻胶缺一不可，这也是为什么，芯片纳米等级推进缓慢的原因。

每推进一步，都需要各行业跟进，一旦说光刻胶不行，那有极紫外光和电路设计图也没用。

正因为技术门槛高，大洋彼岸才能用芯片做文章。

“总裁说得没错。”林天也给予了肯定，他回头看向两位局长道：“现在说3纳米芯片还为时过早，不过我们可以先试试这135纳米波长的极紫外光，看看它能不能满足芯片生产需求。”

“这句话在理。”

“确实是我们操之过急了。”

雷兵和夏扬点了点头。

他们属于是懂一点，但并不知道半导体芯片领域可不仅仅只有极紫外光，还有n多的细枝末节，只有全部攻克才能造出芯片。

“趁着天没亮，我们尽快测试光束的可行性吧。”陈星提醒一句。

他们现在可是关了全深城的电力供应，哪怕是凌晨4点钟，但依然会对城市造成影响。

“我马上操作。”

林天点了点头回应道。

刚说完，他立马看向设备操控台，开始输入指令，时不时还跑到一侧去操作。

光刻工厂不同于光刻机，它更像是一条完整的自动化流水线，只需要装填半导体硅片以及光刻胶与配套试剂，输入指令后就可以进行自动化生产。

林天在检验了十几束135纳米波长的极紫外光后，也发现了单色性最好的一条光束，将它设定为1号光刻区域。

又经过了十分钟的参数调试，排除外故障情况，林天输入了确定工作的指令。

下一秒。

运输装置自动取片。

存放在特定区域的半导体硅片被静电吸盘吸起，运送到清洗区域，洗掉附着在半导体硅片表面的灰尘和杂质。

在清洗完成以后，半导体硅片会通过特殊运输通道，运往下一个步骤进行烘烤，待半导体硅片彻底干燥将继续运往下一个步骤，涂抹光刻胶。

自动取片。

自动清洗。

自动涂胶。

自动光刻。

这就是光刻工厂，亦或者说光刻全自动工厂。

两块光掩膜版已经重迭，他们在特定

这也是为什么第一期的光刻工厂只有5000平的原因，因为建造太大也没用，像静电吸盘和各类自动化运输的设备，都是需要定制化购买的，关键有些设备国内还没有，比如静电吸盘设备。

第一期相当于测试